ASML有多重要，ASML生产的EUV光刻机有多重要，相信每一个关注芯片产业的人都清楚。
在当前情况之下，任何一家芯片企业，如果工艺想进入7nm及以下，ASML的EUV光刻机就必不可少，因为只有它能够生产。
但ASML没有完全的自主权，他无法真正的决定将自己的EUV光刻机卖给谁，最终它还得听美国的，比如ASML在2018年的时候，就想向中国出口最先进的EUV光刻机，最后美国不允许他卖，所以4年过去了，这台EUV光刻机都没交货。
也正因为如此，所以中国一直在努力的研发自己的光刻机，特别是EUV光刻机，一旦中国厂商能够生产EUV光刻机了，那么ASML就彻底的没有竞争力了。
但近日，阿斯麦（ASML）CEO温彼得（Peter Wennink）表示。“中国不太可能独立复制（replicate）出顶尖的光刻技术。”
不过这样说完之后，他还是做了补充：“这也并不是绝对不可能，因为中国的物理定律和我们这里是一样的”。
那么顶尖光刻机的难点到底在哪里？其实主要有三块，一块是曝光光源，也就是极紫外线的产生。
第二块是对准系统，也就是如何将产生的紫外线收集起来，并使其具有方向性和精准度。第三部分才是透光镜头等技术的整合。
而这三部分之中，前两部分其实都不完全算是ASML的技术，是ASML整合德国TRUMPF、德国的蔡司公司的产品和技术。第三块才主要是ASML的技术。
但一台EUV光刻机，有超过10万个零件，来自于上千家供应链，如果中国想要独立的制造出来，意味着需要上千家供应链崛起，然后都达到顶尖水平，这个确实比较难。
不过温彼得最后补充的话，也是留了余地的，那就是也并不是不可能，还是有可能的。毕竟温彼得在去年4月份还说过，“出口管制将加快中国自主研发，15年时间里他们将做出所有的东西”。
那么15年内，是中国研发出全球最顶尖的光刻机，还是ASML放开出口？
微软雅黑;font-size:14px;">原文标题 : ASML CEO：中国不太可能独立造出顶尖光刻机，但也不是绝对