11 月 4 日消息，新思科技今天宣布，数位与客制化设计流程已获得台积电升级版 3 纳米（N3E）制程的认证。这流程与旗下的基础和介面 IP 组合已在台积电 N3E 制程中实现了多次成功投片（tape out），可协助客户加速研发。
台积电设计基础架构管理部门负责人 DanKochpatcharin 表示，新思科技在台积电 N3E 制程技术上所实现的电子设计自动化（EDA）和 IP 最新成果，为双方共同客户带来强大的解决方案，协助其满足创新设计的严格功耗、效能和面积目标。
台积电 3 纳米工艺将于本季度（第 4 季度）量产，台积电总裁魏哲家先前表示，N3E 技术开发进度较计划提前，预计在 2023 年下半年量产。
媒体科普，新思科技股份有限公司是一家美国电子设计自动化公司、IC 界面 IP 供应厂商，专注于芯片设计和验证、芯片知识产权和计算机安全，与思科没有关系。
新思科技矽晶实现事业群行销策略副总裁 SanjayBali 说，近期的成果代表着新思科技与台积电持续成功合作的另一项重要里程碑，将为设计人员带来可满足其关键设计要求的方法。
新思科技表示，台积电的 N3E 制程扩展其 3 纳米制程系列，具备更好的功耗、效能和良率，可满足高效能运算、AI 人工智慧和行动等工作负载密集型应用的需求。
