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南大光电引入国家大基金二期1.83亿战投,致力发展ArF光刻胶

放大字体  缩小字体 发布日期:2021-07-30 10:39:30
导读

“上半年小批量产已实现营收,或成未来业绩增长第二曲线。”作者:Eric 出品:财经涂鸦7月27日晚,南大光电(300346.SZ)发布公告称,为加快光刻胶事业发展,公司持股71.67%的控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称“宁波南大光电”)拟通过增资扩股方式,引入战略投资者国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司(下称“国家大

“上半年小批量产已实现营收,或成未来业绩增长第二曲线。”

作者:Eric 出品:财经涂鸦

7月27日晚,南大光电(300346.SZ)发布公告称,为加快光刻胶事业发展,公司持股71.67%的控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称“宁波南大光电”)拟通过增资扩股方式,引入战略投资者国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司(下称“国家大基金二期”)。

受此利好消息影响,7月28日,南大光电股价跳开2.23%开盘,随后继续震荡上扬,一度涨超18%上摸59.88元,股价再创历史新高。截至收盘,南大光电股价报收58.3元,涨幅达15.22%,市值突破230亿元。


来源:同花顺

拥抱战投致力发展ArF光刻胶

目前国内半导体行业在一些核心环节与先进技术之间仍存在数年差距,尤其像半导体设备等。

大基金二期的投资蓝图已逐渐浮出水面。据不完全统计,国家大基金二期公开投资的项目已超过10个,包括中芯国际(688981.SH)、中微公司(688012.SH)、长川科技(300604.SZ)、及华润微(688396.SH)等企业。

国家大基金总裁丁文武此前曾公开表示:“希望打造一个集成电路产业链供应体系,尤其是国产装备、材料等上游产业链环节。”

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造。长期以来,国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断,对我国芯片制造具有“卡脖子”风险。

此次,大基金二期拟以合计人民币1.83亿元的价格认购宁波南大光电的新增注册资本6733.19万元。本次增资完成后,南大光电的持股比例由71.67%降至58.53%。国家大基金二期持股18.33%。

宁波南大光电是国家科技重大专项(02专项)之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。

公告中,南大光电表示经过三年多的组织建设和技术攻关,宁波南大光电已组建了一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍。

在产能上,宁波南大光电建成了年产25吨的 ArF(干式和浸没式)光刻胶产品生产线。

在产品质量上,研发的ArF光刻胶产品已经分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证,相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进。

以上三方面的的优势为ArF光刻胶的规模化量产提供了坚实的保障。

南大光电进一步表示,在积极推动ArF光刻胶产业化的同时,将介入先进光刻胶配套材料的产业链,建立先进光刻胶配套材料的国产化供应体系,打造配套完整的国产光刻胶产业链,为公司打造新的利润增长点。

并且,此次引入战略投资者大基金二期,不仅可以扩充资金实力,更重要的是,进一步规范公司治理,提高决策管理水平,也有利于增强公司与国内半导体设备、芯片制造头部企业的协同,从而加速光刻胶业务的发展。

ArF光刻胶或成业绩增长第二曲线

光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料,决定了半导体图形工艺的精密程度和良率,其质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。

其中,ArF 光刻胶材料可用于90nm-14nm 甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等高端芯片制造。

按不同制程和曝光波长,半导体用光刻胶可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶,前三者均为高端光刻胶产品。产业信息网数据显示,截至2019年国内在g线/i线光刻胶仅达到20%自给率,而KrF光刻胶自给率不足 5%,ArF光刻胶则完全依赖进口。

在ArF光刻胶领域,国内已有众多企业相继开启研发,其中包括江苏的南大光电和晶瑞股份(300655.SZ)等。 而南大光电在这一轮竞赛中率先突破。

早在2016年,公司参股了北京科华微电子材料有限公司,便开始了研发“193nm光刻胶项目”,并且该公司是唯一一家通过了EUV光刻胶“02专项”研发的企业。彼时,南大光电便宣称,计划用3年的时间实现ArF光刻胶产品的建设、投产和销售,最终达到年产25吨193nm ArF光刻胶产品的生产规模。

2020年12月,南大光电发布公告称,其控股子公司 宁波南大光电自主研发的ArF(193nm)光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。南大光电成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,各项光学性能均达到商用胶水平。

2021年5月,南大光电表示自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。

同月,南大光电曾在投资者互动平台表示,公司已建成25吨光刻胶生产线,生产线已具备批量生产的条件。

7月2日,南大光电在互动平台上表示,公司旗下的ArF光刻胶产品拿到小批量订单。

2020年宁波南大光电还没有实现收入,净利润亏损386.82万元,资产共计8.78亿元。但2021年上半年(未经审计),宁波南大光电已实现19.42万元的营收,净利润亏损343.07万元,小幅收窄。

来源:公司公告

南大电光曾预计光刻胶在2021年底形成年产25吨193nm(ArF干式5吨和浸没式20吨)光刻胶产品的生产规模,明年启动量产,力争尽早实现盈利。

按照光刻胶1000万每吨供不应求计算(行业估价,单价可能存在偏差),ArF光刻胶满产后将提供营收约2.5亿元,按照晶瑞股份公开信息显示,光刻胶产品毛利是50%左右,ArF光刻胶有望成新的业绩增长点。

国联证券表示,光刻胶供给端由于日本福岛7.3级地震导致光刻胶龙头信越化学停止供货部分晶圆厂光刻胶,在产线受到影响和晶圆厂扩产等多方因素下,光刻胶供给出现紧缺局面。尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面,国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长。

从2016年进入光刻胶领域, 6年时光南大光电终小有所成。

此外,公司2020年实现营业收入5.95亿元,同比增长85.13%;归母净利润8701.63万元,同比增长58.18%。而2021年一季度公司实现营业收入2.11亿元,同比增长76.74%;归母净利润4259.76万元,同比增长22.15%。

随着ArF光刻胶的量产,南大光电将或迎来新的爆发。

关键词: 南大光电 ArF光刻胶
 
(文/小编)
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